КРИСТАЛІЧНІ ОСОБЛИВОСТІ НАПИЛЕНИХ ШАРІВ ВАЖКИХ МЕТАЛІВ

##plugins.themes.bootstrap3.article.main##

Я. Д. Король
Н. В. Сторожук

Анотація

Досліджено тонкі шари важких металів (Pb, Sn, Bi), нанесені термовакуумним осадженням на підложки з монокристалічного кремнію з різними параметрами шорсткості поверхні. Методами рентгенівської дифрактометрії та фотометодом з коливанням монокристалу детально досліджено кристалоструктурні особливості свинцевих шарів в залежності від ряду параметрів. Показано, що при напиленні на поліровану поверхню кремнію свинцевий шар формує дуже гостру текстуру в напрямку <111>, перпендикулярно до поверхні підложки – своєрідний «плоский монокристал». При цьому інтенсивність дифракційного піку (111) має аномамально високу величину, співставиму з інтенсивністю монокристалічного кварцу. Напилення на шліфовану поверхню підложки приводить до формування плівки, близької до полікристалічного стану. Зроблено висновок про важливу роль топології поверхні у формуванні «плоского монокристалу» при напиленні свинцю у вакуумі.
Досліджено залежність «монокристальності» свинцевого осаду від його товщини. Отримано немонотонний характер зміни інтенсивності основної дифракційної лінії (111) осаду із збільшенням товщини, запропоновано пояснення такої залежності.

##plugins.themes.bootstrap3.article.details##

Розділ
ФІЗИКА МАТЕРІАЛІВ
Біографії авторів

Я. Д. Король

Кандидат фіз.-мат. наук, доцент завідувач навчально-науковим центром фізико-хімічних експериментальних досліджень, Черкаський національний університет імені Богдана Хмельницького, бульв. Шевченка 81, 18031, Черкаси, Україна.

Н. В. Сторожук

Кандидат фіз.-мат. наук , ст. викладач, Черкаський національний університет імені Богдана Хмельницького, бульв. Шевченка 81, 18031, Черкаси, Україна.

Посилання

1. Pauleau Y. Protective Coatings and Thin Films: Synthesis, Characterization, and Applications / Y. Pauleau, P. B. Barna. – New York : Springer Science & Business Media, 1997. – P. 664.
2. Тонкі плівки в техніці // Комник Ю. Ф. Физика металлических пленок / Ю. Ф. Комник. – М. : Атомиздат, 1979. – 262 c.
3. Антонец И. В. Особенности наноструктуры и удельной проводимости тонких пленок различных металлов / И. В. Антонец, Л. Н. Котов, С. В. Некипелов, Е. А. Голубев // Журнал технической физики. – 2004. – Т. 74, Вып. 3. – С. 24–27.
4. Грабов В. М. Особенности структуры пленок висмута, полученных методом термического испарения в вакууме / В. М. Грабов и др. // Известия РГПУ им. А. И. Герцена. – 2009. – № 95.
5. Perrone A. Comparison of the properties of Pb thin films deposited on Nb substrate using thermal evaporation and pulsed laser deposition techniques / A. Perrone, F. Gontad, A. Lorusso, M. Di. Giulio, Esteban Broitman, M. Ferrario // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. Section A : Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment. – 2013. – Vol. 729. – P. 451–455.
6. Tu K.-N. Room Temperature Interaction in Bimetallic Thin Film Couples / KingNing Tu, Robert Rosenberg // Jpn. J. Appl. Phys. – 1974. – Vol. 13. – P. 13 633. – (doi:10.7567/JJAPS.2S1.633)
7. Birkholz M, Thin Film Analysis by X-Ray Scattering / Mario Birkholz. – Berlin : Wiley, 2006.
8. International Centre for Diffraction Data. – Access : http://www.icdd.com/products/ pdf2.htm

9. Рыбковский В. Я. Влияние условии электролиза на текстуру электролитического железа / В. Я. Рыбковский, Ю. Н. Петров, Е. А. Мамонтов // Труды. – 1969. – Т. 58. – С. 136.
10. Lashmorel D. S. Electrodeposited Cu-Ni Textured Superlattices / D. S. Lashmorel, M. P. Dariell // Journal of the Electrochemical Society. – 1988. – Vol. 135(5). – P. 1218–1221.
11. Almer J. Strain and texture analysis of coatings using high-energy x-rays / J. Almer, U. Lienert, R. L. Peng, C. Schlauer and M. Odén // J. Appl. Phys. – 2003. – Vol. 94. – P. 697.
12. Mattox D. M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing / Donald M. Mattox – Elsevier Inc., 2010. – 771 p.
13. Moutinho1 H. R. Investigation of polycrystalline CdTe thin films deposited by physical vapor deposition, close-spaced sublimation, and sputtering / H. R. Moutinho1, F. S. Hasoon1, F. Abulfotuh1 and L. L. Kazmerski1 // J. Vac. Sci. Technol. Section A 13. – 1995. – P. 2877.
14. Табалов А. В. Особенности формирования тонких пленок меди на диэлектрических подложках / А. В. Табалов, В. М. Березин // Известия Челябинского научного центра. – 2002. – Вып. 3 (16). – C. 36 38.
15. Мешалкин А. Ю. Цифровой метод измерения толщины нанометровых пленок на базе микроинтерферометра МИИ-4 / А. Ю. Мешалкин, И. С. Андриеш, и др. // Электронная обработка материалов. – 2012. – Т. 48, №6. – С. 114–118.
16. Назаров В. В. Определение толщины и элементного состава покрытий рентгенфлюоресцентным методом / В. В. Назаров // Заводская лаборатория. – 1991. – № 9. – С. 27–29.
17. Блохин М. А. Определение толщин покрытий с помощью рентгеновского спектрометра КРФС-2 / М. А. Блохин, В. Ф. Волков // Заводская лаборатория.– 1961. – №9 (ХХVII). – С. 1110–1111.
18. Карев В. Н. Оределение толщины металлических фольг по изменению интенсивности характеристических лучей / В. Н. Карев, А. П. Ключарев, В. Н. Медяник // Заводская лаборатория. – 1962. – №12 (ХХVIII). –С. 1449–1451.