МОДЕЛЮВАННЯ ПРОЦЕСУ НАПИЛЕННЯ В СИСТЕМІ NI-AL МЕТОДОМ МОЛЕКУЛЯРНОЇ ДИНАМІКИ
##plugins.themes.bootstrap3.article.main##
Анотація
У роботі представлена комп’ютерна модель процесу напилення атомів нікелю на поверхню наноплівки з атомів алюмінію. Показано вплив початкових умов (температури, густини потоку) на сам процес напилення і формування структур на контакті. Комп’ютерне моделювання проводилось за допомогою класичного методу молекулярної динаміки з використанням ЕАМ потенціалу міжатомної взаємодії.
##plugins.themes.bootstrap3.article.details##
Посилання
1. Мержанов А. Г., Мукасьян А. С. Твердопламенное горение. – М.: ТОРУС ПРЕСС, 2007. – 336 с.
2. Hwang S.-F., Shun-Fa Hwang, Yi-Hung Li, Zheng-Han Hong. Molecular dynamic simulation for Cu cluster deposition on Si substrate // Computational Materials Science. – 2012.– V. 56. – p.85-94.
3. Kim S.-P., Lee K.-R., Chung Y.-C., Doiand M. Sahashi M. // Molecular Dynamics Study of the Deposition and the Diffusion Behaviors of Al on a Cu Surface // Journal of the Korean Physical Society. – 2008. – V. 52, No. 4. – C. 1240-1245.
4. Moarrefzadeh A. Simulation and Modeling of Physical Vapor Deposition (PVD) Process // WSEAS transactions on applied and theoretical mechanics. – 2012. – Issue 2, V. 7. – C. 106-111.
5. Storozhuk N. V., Sopiga K. V., Gusak A. M. Mean-field and quasi-phase field models of nucleation and phase competition in reactive diffusion // Philosophical Magazine. – 2013. – V. 93. – C. 1999-2012.
6. Baras F., Politano O. Molecular dynamics simulations of nanometric metallic multilayers: Reactivity of the Ni-Al system //Physical Review B84. – 2011. – P. 024113.
7. Politano O., Baras F., Mukasyan A. S., Vadchenko S. G., Rogachev A. S. Microstructure development during NiAl intermetallic synthesis in reactive Ni–Al nanolayers: Numerical investigations vs. TEM observations // Surface & Coatings Technology. – 2013. – V. 215 – p.485-492.
8. Rogachev A. S., Vadchenkova S. G., Baras F., Politano O., Rouvimov S., Sachkova N. V., Mukasyan A. S. Structure evolution and reaction mechanism in the Ni/Al reactive multilayer nanofoils // Acta Materialia. – 2014. – V. 66. – p.86-96.
9. Mishin Y., Mehl M. J., Papaconstantopoulos D. A. Embedded-atom potential for B2-NiAl // Physical Review B. – 2002. – V. 65. – P. 224114.
10. Rapaport D. C. The Art of Molecular Dynamics Simulation. – NY: Cambridge University Press, 2004. – 564 p.
11. Frenkel D., Smith B. Understanding Molecular Simulation. – San Diego: Computational Science Series Academic Press, 2002. – 658 p.